現在越來越多實驗室或醫療機構意識到了超聲波清洗的便捷性與應用性，而超聲波清洗也越來越普遍應用于各行各業。之前的文章中，我們已經了解了超聲波清洗的工作原理、儀器功能等方面，今天，咱們就來聊聊超聲波清洗比較常見的清洗方式。

   溶劑清洗

比較傳統的方法，其優點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環使用;但缺點也比較明顯，由于光學玻璃的生產環境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。

   半水基清洗

近年來逐漸發展成熟的一種新工藝，它是在傳統溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統;設備上的配套裝置更少;使用周期比溶劑要更長;在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑最為突出的一個優點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。它的缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢，并且必須要進行漂洗。

   鍍膜前清洗
鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油，求芯也稱定芯、取芯，指為了得到規定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。由于鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。

鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式，分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學藥劑類型如前所述。

   鍍膜后清洗
一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗(接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規定的形狀，以滿足無法一次加工成型的需求，或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序)要求最為嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。